高温原位化学气相沉积系统

FE-CVD系列

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产品特点、应用范围:

在化学气相沉积系统内集成独有的耐高温显微成像系统,能够实现材料生长过程的原位高分辨光学成像,从而获得材料生长速率、微观形貌等参数的实时信息,为剖析材料生长机理机制,改进材料生长工艺提供精确数据。

产品可应用于二维材料生长、薄膜生长、纳米/微米线生长、高温烧结、高温刻蚀等。

可定制拉曼、二次谐波等光谱模块。

设备原理图:

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成像效果:

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MoS2生长过程光学成像:

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高温液相生长过程的原位成像

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高温气相生长过程的原位成像

其他潜在应用场景:

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晶体生长

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高温加工

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发动机内窥、高温燃烧过程

设备主要参数:

 

FE-CVD-B

FE-CVD-A

FE-CVD-S

显微成像最高工作温度

600 °C

900 °C

≤ 900 °C

光学分辨率

3 μm

≥ 2 μm

视野

≥ 1000 x 1000 μm

≥ 200 x 200 μm

物镜工作距离

60 mm

20 mm / 60 mm

相机数据位数

8位

最高 16 位

成像波长

532 nm

显微光学成像温区

第1温区(左温区)

左温区 / 右温区

加热温区

双温区

温区长度

20 cm(左温区) + 3 cm(隔断)+ 10 cm(右温区)

定制

石英管最大直径

25.4 mm

50 mm

100 mm

控温精度

± 1 °C

供电电压

220 V

环境温度 / 湿度

5 ~ 40 °C / < 80%

质保方案

1 年

 

FE-CVD-ProB

FE-CVD-ProA

FE-CVD-ProS

显微成像最高工作温度

900 °C

950 °C

950 °C

光学分辨率

1.5 μm

1 μm

≥ 1 μm

视野

≥ 200 x 200 μm

物镜工作距离

20 mm

相机数据位数

12 位

最高 16 位

成像波长

532 nm

显微光学成像温区

第1温区(左温区)

左温区 / 右温区

加热温区

双温区

温区长度

20 cm(左温区)+3 cm(隔断)+10 cm(右温区)

定制

石英管最大直径

25.4 mm

50 mm

100 mm

控温精度

± 1 °C

供电电压

220 V

环境温度 / 湿度

5 ~ 40 °C / < 80%

质保方案

1 年