高温原位化学气相沉积系统

FE-CVD
型号
FE-CVD-Pro
分类
FE-CVD

产品简介

  在化学气相沉积系统内集成独有的耐高温显微成像系统,能够实现材料生长过程的原位高分辨光学成像,从而获得材料生长速率、微观形貌等参数的实时信息,为剖析材料生长机理机制,改进材料生长工艺提供精确数据。

  产品可应用于二维材料生长、薄膜生长、纳米/微米线生长、高温烧结、高温刻蚀等。

  可定制拉曼、二次谐波等光谱模块。

产品详情

——  设备原理图  ——

——  成像效果  ——

——  MoS2生长过程光学成像  ——


高温液相生长过程的原位成像


高温气相生长过程的原位成像

——  其他潜在应用场景  ——

晶体生长 高温加工 发动机内窥、高温燃烧过程

——  设备主要参数  ——

  FE-CVD-B FE-CVD-A FE-CVD-S
显微成像最高工作温度 600 ℃ 900 ℃ ≤ 900 ℃
光学分辨率 3 μm 3 μm ≥ 2 μm
视野 ≥ 1000 × 1000 μm ≥ 1000 × 1000 μm ≥ 200 × 200 μm
物镜工作距离 60 mm 60 mm 20 mm / 60 mm
相机数据位数 8 位 8 位 最高 16 位
成像波长 532 nm 532 nm 532 nm
显微光学成像温区 第 1 温区 ( 左温区 ) 第 1 温区 ( 左温区 ) 左温区 / 右温区
加热温区 双温区 双温区 双温区
温区长度 20 cm( 左温区)+ 3 cm(隔断)+ 10 cm(右温区) 20 cm( 左温区)+ 3 cm(隔断)+ 10 cm(右温区) 定制
石英管最大直径 25.4 mm 50 mm 100 mm
控温精度 ± 1 ℃ ± 1 ℃ ± 1 ℃
供电电压 220 V 220 V 220 V
环境温度 / 湿度 5 ~ 40 ℃ / < 80 % 5 ~ 40 ℃ / < 80 % 5 ~ 40 ℃ / < 80 %
质保方案 1 年 1 年 1 年

 

  FE-CVD-ProB FE-CVD-ProA FE-CVD-ProS
显微成像最高工作温度 900 ℃ 950 ℃ 950 ℃
光学分辨率 1.5 μm 1 μm ≥ 1 μm
视野 ≥ 200 × 200 μm ≥ 200 × 200 μm ≥ 200 × 200 μm
物镜工作距离 20 mm 20 mm 20 mm
相机数据位数 16 位 16 位 最高 16 位
成像波长 532 nm 532 nm 532 nm
显微光学成像温区 第 1 温区 ( 左温区 ) 第 1 温区 ( 左温区 ) 左温区 / 右温区
加热温区 双温区 双温区 双温区
温区长度 20 cm( 左温区)+ 3 cm(隔断)+ 10 cm(右温区) 20 cm( 左温区)+ 3 cm(隔断)+ 10 cm(右温区) 定制
石英管最大直径 25.4 mm 50 mm 100 mm
控温精度 ± 1 ℃ ± 1 ℃ ± 1 ℃
供电电压 220 V 220 V 220 V
环境温度 / 湿度 5 ~ 40 ℃ / < 80 % 5 ~ 40 ℃ / < 80 % 5 ~ 40 ℃ / < 80 %
质保方案 1 年 1 年 1 年