高温原位成像CVD

• 耐高温光学成像（950℃，1μm分辨率）
• 用于生长机制、生长动力学等高温过程研究。
• 潜在应用：二维材料生长、薄膜沉积、高温晶化、高温刻蚀等。

光学自动化检测设备

• 明场、暗场、光谱等功能模块。
• 表面颗粒、划痕、图案、微观缺陷、二维材料层数等检测功能。
• 大尺寸基底（晶圆）的自动化扫描与自动化数据处理。

单层MoS₂晶圆

• 大晶畴尺寸（＞50μm）。
• 全单层、全覆盖。
• 1 cm 到 4 英寸。

积木式光谱教学系统

• 模块化，即搭即用，无需调节。
• 拉曼、荧光、原子发射等光谱功能。
• 有配套课程，适用于初、高中、大学、研究生教学。