产品展示
原位显微成像气相沉积系统
型号：FE-900
▲ 900℃材料生长环境可视化实时观测
▲ 样品可移动 / 观测感兴趣的区域
▲ 完美兼容现有的管式炉生长系统
▲ 可靠的隔热系统 / 设备表面温度接近室温
产品细节
用途说明
本系统在化学气相沉积系统内集成独有的耐高温显微成像系统，能够实现材料生长过程的原位高分辨光学成像，从而获得材料生长速率、微观形貌等参数的实时信息，为剖析材料生长机理机制、改进材料生长工艺提供精确数据。
应用范围
二维材料生长、薄膜生长、纳米/微米线生长等。
设备示意图
成像效果
技术参数
| 加热温区 | 双温区 |
| 温区恒温总长度 | 40cm |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 石英管尺寸 | 圆形部分1英寸直径，矩形部分边长2cm×3cm（可定制其它尺寸） |
| 显微光学成像温区 | 第1温区（左温区） |
| 显微成像最高工作温度 | 900℃ |
| 成像波长 | 532nm或488nm |
| 物镜工作距离 | 20mm |
| 成像分辨率 | 1.5μm |
| 视野 | 全视野尺寸：>600μm×400μm 高分辨率区域尺寸：>200μm×200μm |
| 相机数据位数 | 黑白12位 |
| 炉体尺寸 | 700mm×400mm×700mm |
| 光学平台台面尺寸 | 1500mm×600mm×150mm |
| 炉体重量 | ~100kg |
| 光学平台重量 | ~150kg |
| 供电电压 | 220V |
| 最大功率 | 5kW |
| 环境工作温度 | 5-40℃ |
| 环境工作湿度 | <80% |
应用案例
▶单层过渡金属液相边缘外延生长研究
▶▶LPEE过程实时光学特征
▶▶案例文献
Liquid Phase Edge Epitaxy of Transition-Metal Dichalcogenide Monolayers
J. Am. Chem. Soc.
成像系统拓展应用
成像系统可拓展应用于高温烧结系统、高温刻蚀系统、高温镀膜系统以及其他高温显微需求的领域。
*支持定制：2英寸炉、4英寸炉、电动控制及其他特殊需求，具体配置需求欢迎来电交流。联系我们
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